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石膏硬度測(cè)試機(jī)

簡(jiǎn)要描述:

石膏硬度測(cè)試機(jī)
石膏硬度測(cè)定儀是按照國(guó)標(biāo)GB/T 17669.3-1999《建筑石膏》中石膏硬度的測(cè)定規(guī)定的要求制造的。
、技術(shù)參數(shù):
鋼球:直徑10mm
深度千分表:0.001mm
荷載重量:導(dǎo)柱10N
配重砝碼:190N
三、主要結(jié)構(gòu)特點(diǎn)

石膏硬度測(cè)試機(jī)

石膏硬度測(cè)試機(jī)

 

石膏硬度測(cè)定儀是按照國(guó)標(biāo)GB/T 17669.3-1999《建筑石膏》中石膏硬度的測(cè)定規(guī)定的要求制造的。

二、技術(shù)參數(shù):

鋼球:直徑10mm                        

深度千分表:0.001mm                    

荷載重量:導(dǎo)柱10N    

配重砝碼:190N                           

三、主要結(jié)構(gòu)特點(diǎn):  

1、底座采用14mm鋼板制成穩(wěn)重可靠。  

2、加載重量,導(dǎo)柱10N,后續(xù)加載重量190N,操作簡(jiǎn)單。  

3、導(dǎo)柱采用直線滑軌制作,自由降落阻力小,滑動(dòng)順暢。  

4、測(cè)量深度精準(zhǔn),精度高。

四、使用方法:  

1、將已做完抗折試驗(yàn)后的不同試件上的三塊半截試件進(jìn)行試驗(yàn)。  

2、將試件成型的兩個(gè)縱向(即與磨具接觸的側(cè)面)面放置儀器平臺(tái)上,在每個(gè)試件上布置三個(gè)點(diǎn),各點(diǎn)之間的距離為試件長(zhǎng)度的四分之一,外點(diǎn)應(yīng)至少距試件邊緣20mm。

3、先將導(dǎo)柱(10N)置于試件上,然后在2s內(nèi)將190N配重放置于導(dǎo)柱上,開(kāi)始計(jì)時(shí),靜置15s移去荷載,移去荷載15s后移出試件,用深度千分表測(cè)量球痕深度。     

四、使用方法:  

1、將已做完抗折試驗(yàn)后的不同試件上的三塊半截試件進(jìn)行試驗(yàn)。  

2、將試件成型的兩個(gè)縱向(即與磨具接觸的側(cè)面)面放置儀器平臺(tái)上,在每個(gè)試件上布置三個(gè)點(diǎn),各點(diǎn)之間的距離為試件長(zhǎng)度的四分之一,外點(diǎn)應(yīng)至少距試件邊緣20mm。

3、先將導(dǎo)柱(10N)置于試件上,然后在2s內(nèi)將190N配重放置于導(dǎo)柱上,開(kāi)始計(jì)時(shí),靜置15s移去荷載,移去荷載15s后移出試件,用深度千分表測(cè)量球痕深度。     

四、使用方法:  

1、將已做完抗折試驗(yàn)后的不同試件上的三塊半截試件進(jìn)行試驗(yàn)。  

2、將試件成型的兩個(gè)縱向(即與磨具接觸的側(cè)面)面放置儀器平臺(tái)上,在每個(gè)試件上布置三個(gè)點(diǎn),各點(diǎn)之間的距離為試件長(zhǎng)度的四分之一,外點(diǎn)應(yīng)至少距試件邊緣20mm。

3、先將導(dǎo)柱(10N)置于試件上,然后在2s內(nèi)將190N配重放置于導(dǎo)柱上,開(kāi)始計(jì)時(shí),靜置15s移去荷載,移去荷載15s后移出試件,用深度千分表測(cè)量球痕深度。     

四、使用方法:  

1、將已做完抗折試驗(yàn)后的不同試件上的三塊半截試件進(jìn)行試驗(yàn)。  

2、將試件成型的兩個(gè)縱向(即與磨具接觸的側(cè)面)面放置儀器平臺(tái)上,在每個(gè)試件上布置三個(gè)點(diǎn),各點(diǎn)之間的距離為試件長(zhǎng)度的四分之一,外點(diǎn)應(yīng)至少距試件邊緣20mm。

3、先將導(dǎo)柱(10N)置于試件上,然后在2s內(nèi)將190N配重放置于導(dǎo)柱上,開(kāi)始計(jì)時(shí),靜置15s移去荷載,移去荷載15s后移出試件,用深度千分表測(cè)量球痕深度。     

四、使用方法:  

1、將已做完抗折試驗(yàn)后的不同試件上的三塊半截試件進(jìn)行試驗(yàn)。  

2、將試件成型的兩個(gè)縱向(即與磨具接觸的側(cè)面)面放置儀器平臺(tái)上,在每個(gè)試件上布置三個(gè)點(diǎn),各點(diǎn)之間的距離為試件長(zhǎng)度的四分之一,外點(diǎn)應(yīng)至少距試件邊緣20mm。

3、先將導(dǎo)柱(10N)置于試件上,然后在2s內(nèi)將190N配重放置于導(dǎo)柱上,開(kāi)始計(jì)時(shí),靜置15s移去荷載,移去荷載15s后移出試件,用深度千分表測(cè)量球痕深度。     

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